| 主权项 |
1.一种切削工具用硬质皮膜,其为由(Ti1-a-b-c-d,A1a,Crb,Sic,Bd)(C1-eNe)所构成的硬质皮膜,其特征为,0.5≦a≦0.8.0.06≦b、0≦c≦0.1.0≦d≦0.1.0≦c+d≦0.1.a+b+c+d<1.0.5≦e≦1(其中,a、b、c、d分别表示A1.Cr、Si、B的原子比,e表示N的原子比,以下皆同)。2.如申请专利范围第1项之切削工具用硬质皮膜,其中,该c値超过0。3.如申请专利范围第1项之切削工具用硬质皮膜,其中,该a、b的値为0.02≦1-a-b≦0.30.0.55≦a≦0.765.0.06≦b或者0.02≦1-a-b≦0.175.0.765≦a、4(a-0.75)≦b。4.如申请专利范围第3项之切削工具用硬质皮膜,其中,该(c+d)的値为0。5.如申请专利范围第1~4项中任一项之切削工具用硬质皮膜,其中,该e値为1。6.如申请专利范围第1~4项中任一项之切削工具用硬质皮膜,其中,晶体结构以岩盐结构型为主体。7.如申请专利范围第1~4项中任一项之切削工具用硬质皮膜,其中,采用-2法的X射线绕射测定的岩盐结构型之(111)面、(200)面及(220)面的绕射线强度分别为I(111)、I(200)与I(220)时,这些数値满足下述式(1)及/或式(2)与式(3)I(220)≦I(111) …(1)I(220)≦I(200) …(2)I(200)/I(111)≧0.1 …(3)。8.如申请专利范围第1~4项中任一项之切削工具用硬质皮膜,其中,使用Cu的K线之-2法中X射线绕射测定的岩盐结构型(111)面之绕射线其绕射角度在36.5~38.0范围内。9.如申请专利范围第8项之切削工具用硬质皮膜,其中,该(111)面的绕射线的半光谱幅値在1以下。10.一种被覆硬质皮膜的切削工具,其特征为,申请专利范围第1~9项中任一项之切削工具用硬质皮膜经覆盖者。11.一种切削工具用硬质皮膜的制造方法,其为申请专利范围第1~9项中任一项之切削工具用硬质皮膜的制造方法,其特征为,在成膜气体环境中,蒸发金属,使之离子化 |
