| 主权项 |
1.一种正光阻组成物,其包含的成分有: (A)一种树脂,其在侧链具有脂环烃基团,且能藉由 酸作用增加其在硷性显影剂中的溶解度;及 (B)一种化合物,其能藉由以光化的光及辐射照射而 产生酸, 其中该成分(A)为具有至少一种重覆单元的树脂,该 重覆单元包含具有由下列通式(pI)至(pVI)所表示之 脂环烃的部分结构,且属于丙烯酸单体的重覆单元 之含量以总重覆单元计为5至45莫耳%: 其中R11为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基 、异丁基或第二丁基,且Z为与碳原子一起形成脂 环烃基团所需的原子基团;R12至R16各自独立地为具 有1至4个碳原子之直链或分枝的烷基或脂环烃基 团,附带条件为R12至R14或R15及R16至少一个为脂环烃 基团;R17至R21各自独立地为氢原子、具有1至4个碳 原子之直链或分枝烷基或一脂环烃基团,附带条件 为R17至R21至少一个为脂环烃基团,且R19及R21之一为 具有1至4个碳原子之直链或分枝的烷基或脂环烃 基团;及R22至R25各自独立地为具有1至4个碳原子之 直链或分枝烷基或脂环烃基团,附带条件为R22至R25 至少一个为脂环烃基团,且R23及R24可彼此结合以形 成一个环。2.如申请专利范围第1项之正光阻组成 物,其中与丙烯酸单体相符合之重覆单元的含量以 总重覆单元计为10至40莫耳%。3.如申请专利范围第 1项之正光阻组成物,其中与丙烯酸单体相符合之 重覆单元的含量以总重覆单元计为15至35莫耳%。4. 如申请专利范围第1项之正光阻组成物,其进一步 包含的成分有:(C)一种表面活性剂,其包含至少一 个氟原子及矽酮原子。5.如申请专利范围第1项之 正光阻组成物,其进一步包含的成分有:(D)一种有 机硷化合物。6.如申请专利范围第1项之正光阻组 成物,其中该成分(A)的重量平均分子量如为转换成 聚苯乙烯的値为1,000至200,000。7.如申请专利范围 第1项之正光阻组成物,其中该成分(A)进一步包含 一种具有由下式(IV)表示之结构的重覆单元: 其中R1a可为氢原子或甲基;W1可为单键或二种或多 种选自于单键、伸烷基、醚基、硫醚基、羰基及 酯基所组成之基团;Ra1.Rb1.Rc1.Rd1及Re1各自独立地为 氢原子或具有1至4个碳原子的烷基;m及n各自独立 地为0至3的整数,其限制条件为m及n之总和为2至6。 8.如申请专利范围第1项之正光阻组成物,其中该成 分(A)进一步包含一种具有由下式(V-1)、(V-2)、(V-3) 及(V-4)所表示的结构之重覆单元: 其中R1b、R2b、R3b、R4b及R5b各自独立地为氢原子或 可具有取代基的烷基、环烷基或烯基;二个R1b、R2b 、R3b、R4b及R5b可彼此结合以形成一个环。9.如申 请专利范围第1项之正光阻组成物,其中成分(A)进 一步包含具有由下式(VI)表示之结构的重覆单元: 其中A6可为单键或二种或多种选自于由单键、伸 烷基、伸环烷基、醚基、硫醚基、羰基及酯基所 组成之基团;R6a可为氢原子、具有1至4个碳原子的 烷基、氰基或卤素原子。10.如申请专利范围第1项 之正光阻组成物,其中成分(A)进一步包含具有由下 式(VII)表示之结构的重覆单元: 其中R2c、R3c及R4c各自独立地为氢原子或羟基,附带 条件为R2c、R3c及R4c至少一个为羟基。11.如申请专 利范围第10项之正光阻组成物,其中R2c、R3c及R4c至 少二个为羟基。12.如申请专利范围第1项之正光阻 组成物,其中成分(A)进一步包含具有由下式(V-1)、( V-2)、(V-3)及(V-4)所表示的结构之重覆单元: 其中R1b、R2b、R3b、R4b及R5b各自独立地为氢原子或 可具有取代基的烷基、环烷基或烯基;二个R1b、R2b 、R3b、R4b及R5b可彼此结合以形成一个环, 及成分(A)进一步包含具有由下式(VI)表示之结构的 重覆单元: 其中A6可为单键或二种或多种选自于由单键、伸 烷基、伸环烷基、醚基、硫醚基、羰基及酯基所 组成之基团;R6a可为氢原子、具有1至4个碳原子的 烷基、氰基或卤素原子。13.如申请专利范围第1项 之正光阻组成物,其中成分(B)之量以组成物的固体 含量计为0.001%至30重量%。14.如申请专利范围第4项 之正光阻组成物,其中成分(C)之量以组成物的固体 含量计为0.001%至2重量%。15.如申请专利范围第7项 之正光阻组成物,其中成分(D)为一种具有硷度高于 酚的化合物。16.如申请专利范围第7项之正光阻组 成物,其中成分(D)为一种含氮的硷性化合物。 |
