| 主权项 |
1.一种用以消除记录于资料储存装置中资料之方 法,其中资料位元写入于表面,其系藉由一尖端施 加能量与施力之第一组合,形成表面之局部变形凹 处,其代表资料位元,该方法包括藉由尖端施加能 量与施力之第二组合,将表面预记录之变形部位消 除,而大致将表面夷平。2.如申请专利范围第1项之 方法,其中在第一组合中施加之力大于在第二组合 中施加之力。3.如申请专利范围第2项之方法,其中 在第一组合中施加之能量大于在第二组合中施加 之能量。4.如申请专利范围第1项之方法,其中施加 于第一组合及第二组合之能量包括热量。5.如前 述申请专利范围中任一项之方法,包括新凹处之形 成,其系重叠于预备消除之代表预记录资料的变形 处,使表面大致夷平。6.如申请专利范围第5项之方 法,其中新凹处之形成,包括对与预备消除之代表 预记录资料的变形处相关之新凹处之抵消。7.如 申请专利范围第6项之方法,其中新凹处之形成,包 括形成一排新凹处,其中各凹处系与紧接于其前形 成之凹处重叠。8.一种资料处理系统,其包括一资 料储存表面;一尖端,其与表面相接触并可相对于 表面移动;以及一可操作控制器,其在写入模式时, 可藉由一尖端施加能量与施力之第一组合,形成表 面之局部变形凹处,其代表资料位元,以及在消除 模式时,可藉由尖端施加能量与施力之第二组合, 将表面预记录之变形部位消除,而大致将表面夷平 。9.如申请专利范围第8项之系统,其中在第一组合 中施加之力大于在第二组合中施加之力。10.如申 请专利范围第9项之系统,其中在第一组合中施加 之能量大于在第二组合中施加之能量。11.如申请 专利范围第8至10项中任一项之系统,其中施加于第 一组合及第二组合之能量包括热量。12.如申请专 利范围第8至10项中任一项之系统,其中可操作控制 器以控制尖端,形成新凹处,而其系重叠于预备消 除之代表预记录资料的变形处,使表面大致夷平。 13.如申请专利范围第12项之系统,其中可操作控制 器以控制与预备消除之代表预记录资料的变形处 相关之新凹处之抵消。14.如申请专利范围第13项 之系统,其中可操作控制器以控制形成一排新凹处 ,其中各凹处系与紧接于其前形成之凹处重叠。图 式简单说明: 图1系实现本发明之资料储存装置感测器平面图; 图2系自箭头A-A'方向所见感测器横剖图; 图3系资料储存装置之一立方图; 图4系资料储存系统之储存媒介经写入操作后之横 剖图; 图5系储存媒介经选择性消除操作后之横剖图; 图6系储存媒介经选择性消除操作后之另一横剖图 ; 图7系储存媒介表面能量图; 图8系储存媒介在写入操作期间之横剖图;以及 图9系储存媒介在选择性消除操作期间之横剖图。 |
