主权项 |
1.一种供高频应用之功率电晶体装置,其包括: a)一第一分离半导体晶片中的一功率电晶体; b)一第二分离半导体晶片中的一电容器; c)一电压限制装置; d)一种用于容纳及密封该功率电晶体,电容器,及电 压限制装置的封装;及 e)电性连接器,其可将该电容器及电压限制装置连 接至该功率电晶体。2.如申请专利范围第1项之功 率电晶体装置,其中该电压限制装置系与该电容器 一起制造于该第二分离半导体晶片中。3.如申请 专利范围第1项之功率电晶体装置,其中该电压限 制装置包括一电晶体。4.如申请专利范围第1项之 功率电晶体装置,其中该电压限制装置包括一二极 体。5.如申请专利范围第1项之功率电晶体装置,其 中该电性连接器包括焊接线路。6.如申请专利范 围第1项之功率电晶体装置,其中该电容器系一 MOSCAP或其它的电容器结构。7.如申请专利范围第6 项之功率电晶体装置,其中该电压限制装置包括一 二极体。8.如申请专利范围第7项之功率电晶体装 置,其中该电性连接器包括焊接线路。9.一种为与 制造于一分离半导体晶片中的功率电晶体一起使 用之电容器结构,该电容器结构包括一分离半导体 晶片,一制造于该半导体晶片中的电容性元件,及 一制造于该半导体晶片中且与该电容器结构并联 的电压限制装置。10.如申请专利范围第9项之电容 器结构,其中该电压限制装置包括一二极体。11.如 申请专利范围第9项之电容器结构,其中该电压限 制装置包括一电晶体。12.如申请专利范围第9项之 电容器结构,其包括焊接线路用以电性连接该电容 器及该电压限制装置。13.如申请专利范围第9项之 电容器结构,其中该电容器结构包括一MOSCAP或其它 电容器结构。图式简单说明: 图1A及1B所示的系根据先前技艺之电性图及封装后 功率电晶体实体结构的平面图。 图2A及2B所示的系根据本发明具体实施例之电性图 及封装后功率电晶体装置配置的平面图。 图3所示的系根据本发明具体实施例之MOSCAP及二极 体区段的侧面图。 |