| 主权项 |
1.一种溅镀装置,其特征为:具有 溅镀室,配置为可移动成膜对象; 多组阴极,将极性反转的2个作为1组设置于上述溅 镀室内;及 多个AC阴极电源,分别连接各组的阴极,于施加交流 电压使各组的阴极同时放电之际,为不干涉各组阴 极的放电,使各自输出的频率及相位同步;其中 上述多个AC阴极电源,系于各自具备的振荡器内,不 使用代表性的1个AC阴极电源以外的阴极电源所备 有的振荡器,而使用代表性的1个AC阴极电源所备有 的振荡器进行输出。2.如申请专利范围第1项之溅 镀装置,其中,上述多组阴极 系沿着上述成膜对象的行进方向,并行配置于上述 成膜对象的单面侧。3.如申请专利范围第1项之溅 镀装置,其中,将连接并行配置的多组阴极中1组的 AC阴极电源,作为代表性的1个AC阴极电源,将连接上 述多组阴极中1组以外的AC阴极电源,作为代表性的 1个AC阴极电源以外的AC阴极电源。4.如申请专利范 围第1项之溅镀装置,其中,上述多组阴极 系沿着上述成膜对象的行进方向,分别对向并行配 置于上述成膜对象的两面侧。5.如申请专利范围 第1项之溅镀装置,其中,上述多组阴极 系沿着上述成膜对象的行进方向,各不对向且错开 1个位置配置于上述成膜对象的两面侧。6.如申请 专利范围第1项之溅镀装置,其中,将连接配置于上 述成膜对象两面侧的多组阴极中1组的AC阴极电源, 作为代表性的1个AC阴极电源,将连接上述多组阴极 中1组以外的AC阴极电源,作为代表性的1个AC阴极电 源以外的AC阴极电源。7.如申请专利范围第4项之 溅镀装置,其中,上述成膜对象系2片配置为背面对 向, 上述多组阴极系使安装的靶子与上述成膜对象的 各表面呈对向状配置于两侧,用以挟持2片上述成 膜对象。8.如申请专利范围第5项之溅镀装置,其中 ,上述成膜对象系2片配置为背面对向, 上述多组阴极系使安装的靶子与上述成膜对象的 各表面呈对向状配置于两侧,用以挟持2片上述成 膜对象。图式简单说明: 图1为显示习知溅镀装置的溅镀室的说明图。 图2为显示本发明之一实施形态的溅镀装置的溅镀 室的说明图。 图3A为频率不同的2个正弦波的一者的波形图。 图3B为频率不同的2个正弦波的另一者的波形图。 图3C为将图3A与图3B的2个正弦波合成的影像的波形 图。 图4A为具相位差的2个正弦波的一者的波形图。 图4B为具相位差的2个正弦波的另一者的波形图。 图4C为将图4A与图4B的2个正弦波合成的影像的波形 图。 图5为显示用于图2的溅镀室内的同时放电实验的 成为成膜对象的测定基板的俯视图。 图6A为显示用于图2的溅镀室内的同时放电实验的2 台AC阴极电源的一者的频率测定波形的波形图。 图6B为显示用于图2的溅镀室内的同时放电实验的2 台AC阴极电源的另一者的频率测定波形的波形图 。 图7A为藉由显示比较成膜之际取得电源的同步前 与取得同步后的膜厚变化的表的说明图。 图7B为藉由显示比较成膜之际取得电源的同步前 与取得同步后的膜厚变化的曲线的说明图。 图8A为显示图2的溅镀室内的靶配置的变形例1的说 明图。 图8B为显示图2的溅镀室内的靶配置的变形例2的说 明图。 图8C为显示图2的溅镀室内的靶配置的变形例3的说 明图。 |
