发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer NROM-Speicherzellenanordnung |
摘要 |
Bei dem Verfahren werden Gräben (9) geätzt und dazwischen jeweils Bitleitungen (8) auf dotierten Source-/Drain-Bereichen (3) angeordnet. In die Böden der Gräben (9) wird Dotierstoff zur Ausbildung dotierter Bereiche (23) eingebracht, um die Kanalbereiche elektrisch zu modifizieren. An den Grabenwänden werden Speicherschichten aufgebracht und Gate-Elektroden (2) angeordnet. Das Halbleitermaterial an den Böden der Gräben wird zwischen den Wortleitungen (18, 19) soweit weggeätzt, dass die dotierten Bereiche (23) dort so weitgehend entfernt werden, dass ein Übersprechen zwischen längs der Gräben benachbarten Speichenzellen reduziert wird.
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申请公布号 |
DE10226964(A1) |
申请公布日期 |
2004.01.08 |
申请号 |
DE2002126964 |
申请日期 |
2002.06.17 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
DEPPE, JOACHIM;LUDWIG, CHRISTOPH;KLEINT, CHRISTOPH |
分类号 |
H01L21/28;H01L21/3205;H01L21/336;H01L21/8238;H01L21/8246;H01L21/8247;H01L23/52;H01L27/105;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/28 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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