发明名称 Verfahren zur optimalen Fokusbestimmung
摘要 Gemäß dem Verfahren zur optimalen Fokusbestimmung wird zunächst eine Testmaske bereitgestellt, welche ein transparentes Substrat und eine opake Schicht umfasst, die Teile des transparenten Substrats bedeckt, um einen ersten transparenten Bereich mit 0 DEG -Phase und einen zweiten tranparenten Bereich mit 90 DEG -Phase zu schaffen. Die Größen der beiden transparenten Bereiche sind gleich. Als nächstes wird eine Lichtquelle bereitgestellt, deren Licht durch die Testmaske übertragen wird, um eine Belichtung auszuführen. Dann werden ein erstes Bild entsprechend dem ersten transparenten Bereich und ein zweites Bild entsprechend dem zweiten transparenten Bereich ausgebildet. Die Größe des ersten und des zweiten Bildes werden gemessen, um den bestmöglichen Fokus zu bestimmen.
申请公布号 DE10260689(A1) 申请公布日期 2004.01.08
申请号 DE20021060689 申请日期 2002.12.23
申请人 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION, KUEISHAN 发明人 WU, YUAN-HSUN
分类号 G02B7/28;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/207 主分类号 G02B7/28
代理机构 代理人
主权项
地址