Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zündspannung von Plasmen

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduzierung der Zündspannung von Plasmen im Vakuum, bei dem zur Zündung des Plasmas eine gegenüber der zur Aufrechterhaltung der Plasmaentladung eingesetzten Anodenkonfiguration veränderte Anodenkonfiguration benutzt wird, die eine wesentlich niedrigere Zündspannung erfordert, als die Anodenkonfiguration zur Aufrechterhaltung der Plasmaentladung.