发明名称 Kompensations-Halbleiterbauelement
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft ein Kompensations-Halbleiterbauelement mit einer in einem Halbleiterkörper ausgebildeten Drift-Zone (12) und wenigstens einer im Randbereich (103A, 103B) des Halbleiterkörpers in der Drift-Zone (12) ausgebildeten Kompensationszone (52A, 52B, 52C, 52D). Die Kompensationszone (52A, 52B, 52C, 52D) ist komplementär zu der Drift-Zone (12) dotiert und durch wenigstens eine Verbindungszone (60A, 60B, 60C) an eine Kanalzone (20) angeschlossen, die komplementär zu der Drift-Zone (12) dotiert ist und die die Drift-Zone (12) von einer ersten Anschlusszone (30) desselben Leitungstyps wie die Drift-Zone (12) trennt. Eine Steuerelektrode (40) ist isoliert gegenüber der Kanalzone (20) ausgebildet.
申请公布号 DE10226664(A1) 申请公布日期 2004.01.08
申请号 DE20021026664 申请日期 2002.06.14
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 TIHANYI, JENOE
分类号 H01L29/06;H01L29/76;H01L29/78;H01L31/0336;(IPC1-7):H01L29/78 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
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