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发明名称 Verfahren zur Verhinderung des Anätzens bei der Elektroplattierung von Stahl und Eisen und Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens
摘要
申请公布号 CH477561(A) 申请公布日期 1969.08.31
申请号 CH19680012330 申请日期 1963.09.05
申请人 M & T CHEMICALS INC. 发明人 DEV BEDI,RAM
分类号 C25D5/00;C23F13/00;C25D5/02;C25D17/10;(IPC1-7):C23B5/48 主分类号 C25D5/00
代理机构 代理人
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