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发明名称 Method for adjusting the overlay of two masking levels in a photolithographic process
摘要
申请公布号 EP1373982(A2) 申请公布日期 2004.01.02
申请号 EP20020727401 申请日期 2002.03.12
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 HASSMANN, JENS
分类号 G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
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