METALLOAMIDE AND AMINOSILANE PRECURSORS FOR CVD FORMATION OF DIELECTRIC THIN FILMS,申请号EP20020728580-传众专利搜索

发明名称	METALLOAMIDE AND AMINOSILANE PRECURSORS FOR CVD FORMATION OF DIELECTRIC THIN FILMS
摘要
申请公布号	EP1373278(A1)	申请公布日期	2004.01.02
申请号	EP20020728580	申请日期	2002.03.27
申请人		发明人
分类号	C23C16/40;H01L21/3205;C07F7/00;C07F7/02;C07F7/10;C07F7/28;C23C8/00;C23C14/08;H01L21/28;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/469;H01L21/4763;H01L29/51;(IPC1-7):C07F7/00;H01L21/320;H01L21/476	主分类号	C23C16/40
代理机构		代理人
主权项
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