PROCESS FOR FORMING SUB-LITHOGRAPHIC PHOTORESIST FEATURES,申请号EP20010991135-传众专利搜索

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发明名称	PROCESS FOR FORMING SUB-LITHOGRAPHIC PHOTORESIST FEATURES
摘要
申请公布号	EP1374287(A2)	申请公布日期	2004.01.02
申请号	EP20010991135	申请日期	2001.12.12
申请人	ADVANCED MICRO DEVICES INC.	发明人	SHIELDS, JEFFREY, A.;OKOROANYANWU, UZODINMA;YANG, CHIH-YUH
分类号	G03F7/40;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	G03F7/40
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