发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
摘要 | 在控制装置MC,前一批中,记忆有最后进行处理的处理室PM(最终处理PM),而在开始这次一批的处理,从该最终处理PM的下一处理室(例如,最终处理PM为处理室PM1时是处理室PM2)开始搬入半导体晶圆W。由此,可将各处理部的使用频度成为均匀化,而可抑制在维修周期或处理部内的零件的消耗度发生差异。 | ||
申请公布号 | TW200400584 | 申请公布日期 | 2004.01.01 |
申请号 | TW092112464 | 申请日期 | 2003.05.07 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 沼仓雅博 |
分类号 | H01L21/68 | 主分类号 | H01L21/68 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |