发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 在控制装置MC,前一批中,记忆有最后进行处理的处理室PM(最终处理PM),而在开始这次一批的处理,从该最终处理PM的下一处理室(例如,最终处理PM为处理室PM1时是处理室PM2)开始搬入半导体晶圆W。由此,可将各处理部的使用频度成为均匀化,而可抑制在维修周期或处理部内的零件的消耗度发生差异。
申请公布号 TW200400584 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW092112464 申请日期 2003.05.07
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 沼仓雅博
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本