制造在介电层中电容器之方法

摘要

本发明揭示一种在一第一介电层（20）中制造一电容器（92）之方法中，会在该第一介电层（20）之一表面（22）内形成一凹处（40）。在该第一介电层（20）之该表面（22）上与该凹处（40）内，会形成一第一导电层（60）。在该第一导电层（60）上会形成一第二介电层（70），该第一导电层（60）之厚度与该凹处（40）内该第二介电层（70）之厚度的总和会小于该凹处（40）之深度。一第二导电层（80）会形成于该第二介电层（70）上。藉由平坦化以此方式形成之层结构以获得该电容器。