低K値介电层之形成Forming Low K Dielectric Layers

摘要

一种低K值介电层系经由沉积未固化介电层于基板上形成，该介电层包括矽、碳及氧。介电层表面曝露于活化气体而于介电层表面上形成半透性皮层。然后让介电层硬化而让介电层至少部分变成多孔性。