主权项 |
1.一种研磨剂,系研磨被研磨体的表面用之研磨剂,其特征为:由母粒子和研磨中被保持在前述母粒子表面的超微细磨刀石粒而成,且,对于前述母粒子的前述超微细粒子之粒径比为1/500-1/5。2.一种制造研磨剂的方法,系用以制造申请专利范围第1项的研磨剂,其特征为:由将前述母粒子添加在前述分散超微细磨刀石粒之研磨液,而予以搅拌之过程而成。3.一种研磨方法,系使用申请专利范围第1项之研磨剂而以研磨装置进行研磨之方法,其特征为:在前述被研磨体与前述研磨装置之间将前述研磨剂以所定量供给之过程、和使前述研磨装置一面对前述被研磨体接触而相对运动之过程所成的方法。4.如申请专利范围第3项之研磨方法,其中,前述研磨装置系使用平滑且平面性优异之带。5.如申请专利范围第4项之研磨方法,其中,使前述一面接触而相对运动的过程,系由使前述带以所定之旋转速度旋转而研磨前述被研磨体的过程而成者。6.如申请专利范围第3项之研磨方法,其中,前述研磨装置系使用工作台。7.如申请专利范围第6项之研磨方法,其中,使前述一面接触而相对运动的过程,系由使前述工作台以所定之旋转速度一面旋转而把前述被研磨体研磨加工之过程而成。图式简单说明:[图1]系显示使用关于本发明的研磨剂进行研磨断面图。[图2]系显示根据本发明的母粒子之其他实施例者。[图3]系显示根据本发明的母粒子之形态者。[图4]系本发明的理想实施例之电子显微镜照片。 |