发明名称 引导流体物质流通涂布之封闭容具改良结构
摘要 一种引导流体物质流通涂布之封闭容具改良结构,其主要系于主流导管近导出口处朝壁缘延伸有数交错相接之支引管,且该支引管相应于容置槽端布设有导孔,又每一支引管皆延伸穿出盖体外形成引注口,并各藉由梢塞来堵住该引注口,俾与主流导管于底座与盖体间形成封闭之导引回路,藉以形成稳定之循环,以达到有效排出分布于容置槽四周物质之目的者。(一)、本案指定代表图为:第 三 图(二)、本代表图之元件代表符号简单说明:21......导入口 22......导出口23......导流口 31......定位孔4......容置槽 5......主流导管6......支引管 61......导孔7......梢塞
申请公布号 TW570292 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW092209020 申请日期 2003.05.16
申请人 立朗科技股份有限公司 发明人 张耿豪
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 林宜宏 台北县新庄市昌隆街八十八号四楼
主权项 1.一种引导流体物质流通涂布之封闭容具改良结构,其系由封闭容具的中央位置处设有容置槽,使该晶圆封闭容置其间,且于两侧各设有导入口及导出口,并与容置槽间形成导流口,俾以构成主流导管,其特征在于:该主流导管近导出口处朝壁缘延伸有数交错相接之支引管,且该支引管相应于容置槽端布设有导孔,俾与主流导管于底座与盖体间形成封闭之导引回路者。2.依申请专利范围第1项所述之引导流体物质流通涂布之封闭容具改良结构,其中每一支引管皆延伸穿出盖体外形成引注口,并各藉由梢塞来堵住该引注口。图式简单说明:第一图系为习用一般封闭容器之外观示意图。第一之一图系为习用一般封闭容器之上透视图。第二图系为本创作之外观示意图。第三图系为本创作之上透视图。第三之一图系为本创作由导出口视之的剖视图。第三之二图系为本创作由另一方向视之的剖视图。第四图系为本创作之导流实施示意图。
地址 台南县台南科学工业园区南科九路十六号
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