发明名称 |
用于制作具有凹凸的光记录介质的原版盘、压模、以及该光记录介质的制造方法 |
摘要 |
一种用于制作具有凹凸的光记录介质的原版盘的制造方法,包括:在基板(1)的表面上形成光致抗蚀剂层(2)的步骤,该光致抗蚀剂层具有与凹凸一致的精细图案;通过使用光致抗蚀剂层作为掩模并利用反应离子蚀刻,在基板表面上形成凹凸(3)的第一蚀刻步骤;以及在第一蚀刻步骤完成后,在基板(1)上实施氧离子蚀刻的第二蚀刻步骤。通过由此改善表面性质和去除尖锐次沟槽,改善了盘的噪声。 |
申请公布号 |
CN1465057A |
申请公布日期 |
2003.12.31 |
申请号 |
CN02802356.0 |
申请日期 |
2002.06.11 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
古木基裕 |
分类号 |
G11B7/26;G11B11/105 |
主分类号 |
G11B7/26 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
李晓舒;魏晓刚 |
主权项 |
1.一种用于制作具有凹凸的光记录介质的原版盘的制造方法,所述制造方法包括:在基板表面上形成光致抗蚀剂层的步骤,所述光致抗蚀剂层具有与所述凹凸相应的精细图案;通过使用所述光致抗蚀剂层作为掩模并利用反应离子蚀刻在所述基板的所述表面上形成凹凸的第一蚀刻步骤;以及在所述第一蚀刻步骤之后,在所述基板上实施氧离子蚀刻的第二蚀刻步骤。 |
地址 |
日本东京都 |