| 发明名称 | T型栅制作的方法 | ||
| 摘要 | 本发明一种T型栅制作的方法，包括如下步骤：(1)取待制作T型栅的基片，对该基片进行清洗，并用氮气吹干，烘干；(2)在基片上涂三层PMMA/PMGI/PMMA胶，烘干；(3)将涂胶后的基片送电子束曝光、显影、定影；(4)进行挖栅槽、栅金属蒸发、剥离工艺，完成器件或电路制作。 | ||
| 申请公布号 | CN1464527A | 申请公布日期 | 2003.12.31 |
| 申请号 | CN02122636.9 | 申请日期 | 2002.06.19 |
| 申请人 | 中国科学院微电子中心 | 发明人 | 张海英;刘训春;石华芬 |
| 分类号 | H01L21/28;H01L21/44 | 主分类号 | H01L21/28 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 1、一种T型栅制作的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)取待制作T型栅的基片，对该基片进行清洗，并用氮气吹干，烘干；(2)在基片上涂三层PMMA/PMGI/PMMA胶，烘干；(3)将涂胶后的基片送电子束曝光、显影、定影；(4)进行挖栅槽、栅金属蒸发、剥离工艺，完成器件或电路制作。 | ||
| 地址 | 100029北京市德胜门外祁家豁子 | ||