| 发明名称 |
Planar reticle design/fabrication method for rapid inspection and cleaning |
| 摘要 |
A reticle has a transparent substrate, mask shapes on the substrate, a transparent material covering the mask shapes and an optional anti-reflective material over the transparent material.
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| 申请公布号 |
US2003235764(A1) |
申请公布日期 |
2003.12.25 |
| 申请号 |
US20020179827 |
申请日期 |
2002.06.25 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
CORLISS DANIEL A.;PROGLER CHRISTOPHER J.;SEONG NAKGEUON |
| 分类号 |
G01N15/02;G01N21/94;G01N21/956;G03F1/00;G03F1/14;(IPC1-7):G03F1/00;G03F7/20;G01N21/00;C03C23/00;C23G1/00;B08B7/04 |
主分类号 |
G01N15/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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