构图方法

摘要

构图方法，包括在第二材料层上淀积第一材料的溶液滴。选择的溶剂即能溶解材料，在除去溶剂时两种材料能出现相位分离，以提供镶嵌在第二材料中并穿过第二材料的第一材料的畴。通过选择合适的材料，构图方法可以用于制造发光器件，滤色器或电子器件中的垂直互连。

主权项

1.一种构图方法，包括：淀积第一材料层，以溶剂中的第二材料溶液滴的形式有选择地淀积到第一材料层的第一表面上，溶剂选择成也能溶解第一材料，将第一和第二材料选择成在除去溶剂时在第一和第二材料之间出现相位分离，以提供至少一个畴，该畴包含嵌在并伸过到达第一材料的第二表面的第二材料，第二表面与第一表面相对。