发明名称 带抗过剂量辐射脉冲保护的皮肤处理装置
摘要 本发明涉及一种借助于辐射脉冲处理皮肤(7)的装置(1)。该装置包括一个壳体(3),该壳体容纳有一个辐射源(9)和一个用于控制该辐射源的控制单元(37)。根据本发明,该装置包括一个适于测量皮肤的生理特性的探测器(43),该控制单元包括能够根据借助于该探测器测量的该特性的值或状态确定一个来自该辐射源的对于皮肤是允许的脉冲剂量的机构。这样,该装置自动保护防止一个来自该辐射源的可能在皮肤上导致不理想的副作用的过剂量。在一个特定实施例中,由探测器(43)测量的生理特性是皮肤(7)由于暴露于至少一个具有一个预定的安全脉冲剂量的试验辐射脉冲而导致的温度增加。在另一个实施例中,该生理特性是皮肤对于具有一预定波长的光线的散射系数和/或吸收系数或反射系数。本发明可用于例如一个毛发去除装置(1、53、53′、95),如一个激光脱毛器、一个激光剃须刀或一个闪光脱毛器中,但也可用于借助于辐射进行的皮肤医用治疗的装置,例如光学皮肤系统。
申请公布号 CN1463188A 申请公布日期 2003.12.24
申请号 CN02802154.1 申请日期 2002.04.10
申请人 皇家菲利浦电子有限公司 发明人 A·J·森塞;G·J·韦德休斯;J·西蒙森;M·E·罗尔斯马;L·J·M·施兰根;A·M·努伊斯
分类号 A61B18/20;A61B19/00 主分类号 A61B18/20
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 蔡民军;章社杲
主权项 1.一种借助于辐射脉冲处理皮肤的装置,该装置包括一个壳体,该壳体容纳有一个辐射源和一个用于控制该辐射源的控制单元,其特征在于,该装置包括一个用于测量皮肤的生理特性的探测器,该控制单元包括能够根据借助于该探测器测量的该特性的值或状态确定一个来自该辐射源的对于皮肤是允许的脉冲剂量的机构。
地址 荷兰艾恩德霍芬