| 主权项 |
1.一种铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用组成物,其特征在于,系含有下述成分(1)~(5):(1)化合物A,系含有择自Hf(Ⅳ)、Ti(Ⅳ)以及Zr(Ⅳ)之至少1种的金属元素;(2)充分量的含氟化合物,可让组成物中存在着该化合物A中所含金属之合计莫尔浓度之至少5倍莫尔浓度的氟;(3)金属离子B,系择自硷土类金属所构成群之至少1种;(4)金属离子C,系择自Al、Zn、Mg、Mn以及Cu之至少1种;(5)硝酸离子。2.一种铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其特征在于,系含有下述成分(1)~(5):(1)化合物A,系含有择自Hf(Ⅳ)、Ti(Ⅳ)以及Zr(Ⅳ)之至少1种的金属元素,可产生该等金属元素达0.1 ~ 50mmol/L;(2)充分量的含氟化合物,可让处理液中存在着该化合物A中所含金属之合计莫尔浓度之至少5倍莫尔浓度的氟;(3)金属离子B,系择自硷土类金属所构成群之至少1种;(4)金属离子C,系择自Al、Zn、Mg、Mn以及Cu之至少1种;(5)硝酸离子。3.如申请专利范围第2项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,金属离子B之合计浓度为1~500ppm。4.如申请专利范围第2或3项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,金属离子C之浓度为1~5000ppm。5.如申请专利范围第2或3项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,硝酸离子之浓度为1000~30000ppm。6.如申请专利范围第4项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,硝酸离子之浓度为1000~30000ppm。7.如申请专利范围第2或3项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,系进一步添加有择自HClO3.HBrO3.HNO2.HMnO4.HVO3.H2O2.H2WO4.H2MoO4以及该等之含氧酸之盐类中之至少1种。8.如申请专利范围第4项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,系进一步添加有择自HClO3.HBrO3.HNO2.HMnO4.HVO3.H2O2.H2WO4.H2MoO4以及该等之含氧酸之盐类中之至少1种。9.如申请专利范围第5项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,系进一步添加有择自HClO3.HBrO3.HNO2.HMnO4.HVO3.H2O2.H2WO4.H2MoO4以及该等之含氧酸之盐类中之至少1种。10.如申请专利范围第6项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,系进一步添加有择自HClO3.HBrO3.HNO2.HMnO4.HVO3.H2O2.H2WO4.H2MoO4以及该等之含氧酸之盐类中之至少1种。11.如申请专利范围第2或3项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3 ~ 6。12.如申请专利范围第4项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。13.如申请专利范围第5项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。14.如申请专利范围第6项之铝、铝合、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。15.如申请专利范围第7项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。16.如申请专利范围第8项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。17.如申请专利范围第9项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。18.如申请专利范围第10项之铝、铝合金、镁、或镁合金之表面处理用处理液,其中,处理液之pH为3~6。19.一种表面处理方法,其特征在于,系使得铝、铝合金、镁、或镁合金与申请专利范围第2~18项中任一项之表面处理用处理液接触。20.一种金属材料之涂布前处理方法,其特征在于,系使得含有择自铝、铝合金、镁、或镁合金之至少一种之金属做为构成材料之金属材料与申请专利范围第2~18项中任一项之表面处理用处理液接触。21.一种表面处理金属材料,系于铝、铝合金、镁、或镁合金之表面具有由申请专利范围第19项之表面处理方法所得之表面处理皮膜层,且该表面处理皮膜层之附着量以该化合物A所含之金属元素而言为10mg/m2以上。 |
