| 主权项 |
1.一种微影投影装置,包括:-一辐射系统,用来提供辐射之投影光束;-一支持图案构件之支持结构,此一图案构件系用来根据所需之图案,图案化投影光束;-一基板台,用来固持一基板;-一投影系统,用来投影图案化之投影光束到基板之目标部分;其特征为:一音响感测器,其被建构与配置以侦测由投影光束辐射脉冲之通过所引起的声音。2.根据申请专利范围第1项之装置,包括反应该音响感测器输出信号之控制构件,藉此该控制构件系被建构与配置,以控制单位面积的辐射能量,此一能量系于目标部分之曝光期间,由该投影光束传送到该基板。3.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中该音响感测器包括放置于反应室中之麦克风或自动记录式气压计,其中反应室充满部分吸收该投影光束辐射之气体,此室在微影投影装置操作期间,被该投影光束穿越。4.根据申请专利范围第3项之装置,其中该反应室位于固持基板之该基板台,与该投影系统之直接与该基板台相对之元件之间。5.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中该音响感测器包括振动感测器,其机械地耦合到该投影光束入射之物件,以便测量物件中之振动。6.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中该音响感测器包括一麦克风,其被建构与配置以侦测由该投影光束入射之物件所发出之声音。7.根据申请专利范围第5项之装置,其中该物件是该基板。8.根据申请专利范围第5项之装置,其中该物件是该投影系统之一元件。9.根据申请专利范围第3项之装置,其中该反应室包括聚焦构件,用来将该投影光束所产生之声音聚焦到该音响感测器。10.根据申请专利范围第9项之装置,其中该聚焦构件包括该反应室之一内部表面,其中该反应室之至少一个截面是椭圆形的。11.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中支持结构包括用来固持光罩之一光罩台。12.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中辐射系统包括一辐射源。13.一种积体电路装置制作方法,包括步骤:-提供至少部分覆盖一层感光材料之基板;-提供使用一辐射系统之辐射投影光束;-提供使用图案构件赋予投影光束一图案于其截面;-投影图案化之辐射光束到感光材料层的目标部分,其特征为下列步骤:使用音响感测器侦测下列之一:-由该投影光束辐射脉冲之通过所引起的声音;-该投影光束入射之物体中的振动;及-由该投影光束入射之物体所发出的声音;及使用响应该音响感测器之信号输出的控制构件,以控制单位面积的辐射能量,此一能量系于目标部分之曝光期间,由该投影光束传送到该基板。14.一种积体电路装置,其系根据申请专利范围第13项之制作方法制成。图式简单说明:图1描写根据本发明第一具体实施例之微影投影装置;图2系图1装置中所使用之音响感测器配置的平面图;图3系图2之音响感测器配置的侧视图;图4系图1装置中之控制系统的图解;图5系根据本发明第二具体实施例之微影装置之部分的侧视图;图6系根据本发明第三具体实施例之微影装置之部分的侧视图;图7系根据本发明第四具体实施例之微影装置之部分的侧视图;及图8系根据本发明第五具体实施例之微影装置之部分的侧视图。 |
