| 主权项 |
1.一种玻璃基板固定承座(二),其系用以固定一玻璃基板,以令该玻璃基板于一涂布机构上进行萤光粉图腾涂布作业之旋转涂布制程,进而制成场发射显示器之阳极板;该固定承座包括:一旋转载体,内部设有低压气体管路;一外围罩体,其下端呈开放状以形成一矩形开口,以供上述之玻璃基板容置;及一低压吸附装置,设于该外围罩体内部,该低压吸附装置内部设有一与该低压气体管路相通之第一低压区域,并使该低压吸附装置上端与该旋转载体连结,且该第一低压区域延伸至该低压吸附装置下端之表面四周而形成有复数吸附口。2.如申请专利范围第1项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该旋转载体内部更设有给水管路,且于该外围罩体内壁由上而下顺势设置有复数供水管,并使该等供水管与给水管路相连通。3.如申请专利范围第2项所述之玻璃基板固定承座(二),其更设有复数出水口,且该等出水口系与该等供水管相连通。4.如申请专利范围第1项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该外围罩体之矩形开口系由上而下渐渐扩大。5.如申请专利范围第1项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该低压吸附装置系为一低压吸盘。6.如申请专利范围第1项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该低压吸附装置四周与该外围罩体相邻接之内侧嵌入一圆形橡胶环,该圆形橡胶环系部份露出于该低压吸附装置下端之表面外。7.如申请专利范围第6项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该圆形橡胶环及该低压吸附装置可与上述之玻璃基板围成一第二低压区域。8.如申请专利范围第1项所述之玻璃基板固定承座(二),其中该等吸附口系延该低压吸附装置四周呈矩形环状排列。图式简单说明:第一图 系习知场发射显示器阳极板之结构示意图。第二图 系习知阴极射线管之显示屏结构之示意图。第三图 系习知涂布机构之平面示意图。第三图A 系习知涂布机构制程作业模式之示意图(一)。第三图B 系习知涂布机构制程作业模式之示意图(二)。第三图C 系习知涂布机构制程作业模式之示意图(三)。第四图 系习知涂布机构之示意图。第五图 系本发明之局部剖面示意图(有吸附玻璃基板)。第五图A 系本发明之仰视示意图(无吸附玻璃基板)。第五图B 系本发明设于涂布机构上之平面示意图。第六图A 系本发明制程作业模式之示意图(一)。第六图B 系本发明制程作业模式之示意图(二)。第六图C 系本发明制程作业模式之示意图(三)。第六图D 系本发明制程作业模式之示意图(四)。第六图E 系本发明制程作业模式之示意图(五)。第六图F 系本发明制程作业模式之示意图(六)。 |
