发明名称 METHOD FOR THE DEPOSITION OF TRANSPARENT CONDUCTING LAYERS BY MEANS OF SPUTTER GAS COMPRISING HELIUM
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung transparenter leitfähiger Schichten auf der Basis von Oxiden der chemischen Elemente Sn, Zn, In, Ce durch Magnetronsputtern, bei welchem dem für die Ausbildung des Plasmas verwendeten Arbeitsgas ein Anteil von 5 bis 50 Volumenprozent Helium zugesetzt wird.</p>
申请公布号 WO2003104518(P1) 申请公布日期 2003.12.18
申请号 EP2003003346 申请日期 2003.03.31
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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