发明名称 Beschichtungsanlage
摘要 Bei einer Beschichtungsanlage ist ein Rezipient (1) durch eine Blende (2) in einen Kathodenraum (3) und einen Substratraum (4) unterteilt. Sowohl der Kathodenraum (3) als auch der Substratraum (4) weisen eine unmittelbare Absaugung (10, 16) und jeweils eine eigene Gaszuführung (8, 14) auf. Die Gaszuführung (8) in den Kathodenraum (3) ist mit einer Prozessgasquelle (9) und die Gaszuführung (14) für den Substratraum (4) mit einer Reaktivgasquelle (15) verbunden.
申请公布号 DE10216671(A1) 申请公布日期 2003.12.18
申请号 DE20021016671 申请日期 2002.04.15
申请人 APPLIED FILMS GMBH & CO. KG;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 GEISLER, MICHAEL;KASTNER, ALBERT;SZYSZKA, BERND;PFLUG, ANDREAS;MALKOMES, NIELS
分类号 C23C14/34;C23C14/00;C23C14/35;(IPC1-7):C23C14/34;C23C14/54 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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