| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé de séchage de matières diélectriques comprenant au moins deux phases. La phase I consiste à sécher lors d'un processus initial la matière diélectrique fragmentée de sorte que ladite matière passe d'un niveau d'humidité initial compris entre 80 % et 90 % à un niveau compris entre 20 % et 45 %. Lors de la phase II, la matière diélectrique séchée par le processus initial est séchée par micro-ondes dans une chambre cylindrique rotative, avec un niveau de pression compris entre 1 kPa et 6 kPa, une hyperfréquence comprise entre 600 MHz et 6 GHz et une puissance hyperfréquence de sortie comprise entre 2 W et 40 W par gramme de matière séchée, en vue d'obtenir un niveau d'humidité compris entre 8 % et 30 %. Lors de cette phase, la matière est chauffée à une température n'excédant pas 80 °C. Le processus de séchage final est ensuite exécuté de sorte que la matière présente un niveau d'humidité compris entre 6 % et 10 %. L'invention concerne également une installation de séchage de matières diélectriques équipée d'un segment de préparation des produits, d'un segment de séchage initial, d'une chambre à micro-ondes et d'un segment de séchage final. La chambre à micro-ondes comporte une chambre cylindrique se présentant sous la forme d'un cylindre diélectrique (5) logé à l'intérieur de sa cavité métallique (6). Cette cavité métallique (6) est reliée à une pompe à vide (7) et elle est équipée de générateurs de micro-ondes (8) caractérisés par de faibles ondulations de puissance hyperfréquence T < 20 %.</p> |
