发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 该基板处理装置是具有转动以适当间隔平行排列的多个基板的转子(45),一边通过上述转子(45)转动基板(W),一边对基板(W)提供药液并进行处理的基板处理装置,上述转子(45)具有至少1个保持上述平行排列的多个基板(W)的边缘的保持部件(95、96、97、98、99)和至少1个对上述基板(W)的边缘提供并保持按压力的按压部件(100),上述按压部件(100)在上述转子(45)静止时和转动时的任一情况下,始终对上述基板(W)的边缘提供按压力,保持在上述基板(W)的边缘和上述各保持部件(95、96、97、98、99)之间不产生偏移。从而,防止基板边缘被削掉,延长保持棒的寿命,并且可以进行药液处理。 | ||
申请公布号 | CN1462063A | 申请公布日期 | 2003.12.17 |
申请号 | CN03145454.2 | 申请日期 | 2003.05.28 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 江头浩司 |
分类号 | H01L21/302;B08B3/00 | 主分类号 | H01L21/302 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;郑建晖 |
主权项 | 1.一种基板处理装置,具有转动以适当间隔平行排列的多个基板的转子,一边通过上述转子转动基板,一边处理基板,其特征在于:上述转子具有至少1个保持上述平行排列的多个基板边缘的保持部件和至少1个对上述基板的边缘提供并保持按压力的按压部件,上述按压部件在上述转子静止时和转动时的任一情况下,始终对上述基板的边缘提供按压力,保持在上述基板的边缘和上述各保持部件之间不产生偏移。 | ||
地址 | 日本东京都 |