发明名称 用于利用远矩电浆以沈积薄膜在晶圆上之装置及方法
摘要 一种远距电浆原子膜沈积(ALD)装置,包含一反应室;一排气管线,用于自该反应室排出气体;一第一反应性气体供应单元,用于选择性地供应一第一反应性气体至该反应室或该排气管线;一第一反应性气体转移管线,用于连接该第一反应性气体供应单元与该反应室;一第一旁路管线,用于连接该第一反应性气体供应管线与该排气管线;一自由基供应单元,用于产生自由基及选择性地供应该等自由基至该反应室或该排气管线;一自由基转移管线,用于连接该自由基供应单元与该反应室;一第二旁路管线,用于连接该自由基供应单元与该排气管路;以及一主清洗气体供应单元,用于供应一主清洗气体至该第一反应性气体转移管线及/或该自由基转移管线。
申请公布号 TW200307995 申请公布日期 2003.12.16
申请号 TW092108874 申请日期 2003.04.17
申请人 IPS股份有限公司 发明人 朴永薰;林弘周;李相奎;庆炫秀;裴将虎
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 韩国