发明名称 SISTEMA DE LONGITUD DE ONDA PARA UN LASER EXCIMER.
摘要 Un sistema de longitud de onda para medir y controlar la longitud de onda de un láser de banda estrecha. El sistema incluye un medidor de onda (120) para medir los cambios incrementales en la longitud de onda y una referencia atómica de la longitud de onda (190) para calibrar el medidor de onda (120). La referencia atómica de la longitud de onda (190) incluye una célula de vapor (194) para proporcionar un vapor que tiene al menos una línea de absorción cerca de una longitud de onda operativa deseada. El sistema incluye un dispositivo de sintonización de longitud de onda (36) con un intervalo de sintonía suficiente para sintonizar el láser para funcionar a la longitud de onda de la línea de absorción para calibrar el medidor de onda (120). En una realización preferida, el láser es un láser de ArF, y el vapor es platino y la línea de absorción es o 193.224,3 pm ó 293.436,9 pm. Las mejoras sobre los dispositivos de la técnica anterior incluyen un etalón mejorado (184) que tiene una brida de apoyo (81) para proporcionar un soporte colgante de tres puntos de baja tensión (86) para el etalón sin el uso de elastómero.
申请公布号 ES2196784(T3) 申请公布日期 2003.12.16
申请号 ES19990909589T 申请日期 1999.02.23
申请人 CYMER, INC. 发明人 NEWMAN, PETER, C.;SANDSTROM, RICHARD, L.
分类号 G03F7/20;H01S3/02;H01S3/03;H01S3/036;H01S3/0971;H01S3/1055;H01S3/137;H01S3/139;H01S3/225;(IPC1-7):H01S3/13;H01S3/105 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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