| 发明名称 |
METHOD OF PRODUCING HOMOGENEOUS OXIDE LAYERS ON SEMICONDUCTOR CRYSTALS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3518115(A) |
申请公布日期 |
1970.06.30 |
| 申请号 |
USD3518115 |
申请日期 |
1966.06.30 |
| 申请人 |
SIEMENS AG. |
发明人 |
ERICH PAMMER;EDUARD FOLKMANN |
| 分类号 |
H01L21/316;(IPC1-7):H01B3/10 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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