| 发明名称 |
Method of depositing an oxide film by chemical vapor deposition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003233581(A8) |
申请公布日期 |
2003.12.12 |
| 申请号 |
AU20030233581 |
申请日期 |
2003.05.20 |
| 申请人 |
AVIZA TECHNOLOGY, INC |
发明人 |
LAWRENCE D. BARTHOLOMEW;SEUNG G. PARK;SOON K. YUH |
| 分类号 |
C23C16/02;C23C16/04;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/71;H01L21/76 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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