发明名称 三维调整式雷射光侦测装置
摘要 一种三维调整式雷射光侦测装置,用以可调整地侦测于一滑动槽内滑动之一雷射光发射源,例如一光学读写头发射之雷射光,包括一固定部、一调整构件以及一雷射光侦测部。固定部系用以相对固定该雷射光发射源。调整构件设置于固定部上,具有一第一平台部以及一第一调整部,其中第一平台部系可移动地耦接于固定部,而第一调整部系耦接于第一平台部,用以使第一平台部相对于固定部在第一方向移动,其特征在于:第一调整部系位于该本体之内部。雷射光侦测部系耦接于该调整构件,且具有一侦测器,用以侦测雷射光发射源发射之雷射光;其中当固定部固定雷射光发射源时,二者之相对位置系保持固定,藉由调整该调整构件,可调整该侦测器与该雷射发射源之相对位置。
申请公布号 TW566658 申请公布日期 2003.12.11
申请号 TW091200084 申请日期 2002.01.09
申请人 明基电通股份有限公司 发明人 林东龙;刘兴华;林俊男
分类号 G11B7/13 主分类号 G11B7/13
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种三维调整式雷射光侦测装置,用以可调整地侦测于一滑动槽内滑动之一雷射光发射源发射之雷射光,该三维调整式雷射光侦测装置包括:一固定部,该固定部系用以相对固定该雷射光发射源;一调整构件,该调整构件设置于该固定部上;以及一雷射光侦测部,耦接于该调整构件,该雷射光侦测部具有一侦测器,用以侦测该雷射光发射源发射之雷射光;其中当该固定部固定该雷射光发射源时,二者之相对位置系保持固定,藉由调整该调整构件,可调整该侦测器与该雷射发射源之相对位置。2.如申请专利范围第1项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该调整构件更包括一三维调整部,该三维调整部具有一第一平台部、一第二平台部、以及一第三平台部,该第一平台部系在一第一方向可移动地耦接于该固定部;该第二平台部系在大体垂直于该第一方向之一第二方向可移动地耦接于该第一平台部;且该第三平台部系在大体垂直于该第一方向与该第二方向之一第三方向可移动地耦接于该第二平台部。3.如申请专利范围第2项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该调整构件更包括:一第一调整部,耦接于该第一平台部,用以使该第一平台部相对于该固定部在该第一方向移动;一第二调整部,耦接于该第二平台部,用以使该第二平台部相对于该第一平台部在该第二方向移动;以及一第三调整部,耦接于该第三平台部,用以使该第三平台部相对于该第二平台部在该第三方向移动。4.如申请专利范围第3项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该滑动槽间中更设置有一滑杆,该雷射光发射源以可滑动的方式设置于该滑杆上。5.如申请专利范围第4项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该固定部下设有一滑杆固定部,用以卡合该滑杆。6.如申请专利范围第3项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该第一、第二以及第三调整部其中之至少一者系位于该调整构件之内部。7.如申请专利范围第1项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该固定部具有一弹簧片,用以抵接于该滑动槽之一侧,使得该固定部与该雷射光发射源相对固定。8.如申请专利范围第1项所述之三维调整式雷射光侦测装置,其中该雷射光发射源系一光学读写头。9.一种调整平台,包括:一固定部;以及一调整构件,具有一第一平台部以及一第一调整部,其中该第一平台部系在一第一方向可移动地耦接于该固定部,而该第一调整部系耦接于该第一平台部,用以使该第一平台部相对于该固定部在该第一方向移动;其特征在于:该第一调整部系位于该调整构件之内部。10.如申请专利范围第9项所述之调整平台,其中该第一调整部包括一第一弹簧部,连接该第一平台部与该固定部,用以使该第一平台部相对于该固定部在该第一方向移动。11.如申请专利范围第9项所述之调整平台,其中该固定部具有至少一第一滑块,且该第一平台部具有对应于该第一滑块之至少一第一滑槽,其中该第一滑块可相对于该第一滑槽而在该第一方向滑动。12.如申请专利范围第9项所述之调整平台,其中该固定部具有至少一第一滑槽,且该第一平台部具有对应于该第一滑槽之至少一第一滑块,其中该第一滑块可相对于该第一滑槽而在该第一方向滑动。13.如申请专利范围第9项所述之调整平台,其中该调整构件更具有一第二平台部以及一第二调整部,该第二平台部系在大体垂直于该第一方向之一第二方向可移动地耦接于该第一平台部,而该第二调整部系耦接于该第二平台部,用以使该第二平台部相对于该第一平台部在该第二方向移动。14.如申请专利范围第13项所述之调整平台,其中该第一平台部具有一第二滑块,且该第二平台部具有对应于该第二滑块之一第二滑槽,其中该第二滑块可相对于该第二滑槽而在该第二方向滑动。15.如申请专利范围第13项所述之调整平台,其中该第一平台部具有一第二滑槽,且该第二平台部具有对应于该第二滑槽之一第二滑块,其中该第二滑块可相对于该第二滑槽而在该第二方向滑动。16.如申请专利范围第13项所述之调整平台,其中该调整构件更具有一第三平台部以及一第三调整部,该第三平台部系在大体垂直于该第一方向与该第二方向之一第三方向可移动地耦接于该第二平台部,而该第三调整部系耦接于该第三平台部,用以使该第三平台部相对于该第二平台部在该第三方向移动。17.如申请专利范围第16项所述之调整平台,其中该第二调整部包括一第二弹簧部,连接该第二平台部与该第一平台部,用以使该第二平台部相对于该第一平台部在该第二方向移动;且该第三调整部包括一第三弹簧部,连接该第三平台部与该第二平台部,用以使该第三平台部相对于该第二平台部在该第三方向移动。18.如申请专利范围第16项所述之调整平台,其中该第二平台部具有一第三滑块,且该第三平台部具有对应于该第三滑块之一第三滑槽,其中该第三滑块可相对于该第三滑槽而在该第三方向滑动。19.如申请专利范围第16项所述之调整平台,其中该第二平台部具有一第三滑槽,且该第三平台部具有对应于该第三滑槽之一第三滑块,其中该第三滑块可相对于该第三滑槽而在该第三方向滑动。图式简单说明:第1图系习知雷射光侦测器的示意图。第2a图与第2b图系习知三维调整平台之一例的示意图。第3图系习知光碟机之光学读写头的示意图。第4a图与第4b图系本创作一实施例之三维调整式雷射光侦测装置的立体图。第4c图系上述实施例之三维调整式雷射光侦测装置的立体分解图。第4d图系上述实施例之三维调整式雷射光侦测装置的俯视图。第5图系上述实施例之三维调整式雷射光侦测装置侦测光学读写头之示意图。
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