| 主权项 |
1.一种高可视性发光二极体面型光源调制装置,其包括:至少一微型平面透镜(Fresnel lens),其具有复数之同心环状凹凸结构;至少一发光二极体,系设置于前述微型平面透镜之一侧;该发光二极体与微型平面透镜之间具有一定距离,藉由微型平面透镜对发光二极体之光线产生放大作用者。2.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系设置于该微型平面透镜之其中一侧面者。3.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系设置于该微型平面透镜之相对应两侧面者。4.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜系同轴心层层相叠或以错位量D排列相叠有多层者。5.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系正圆环型者。6.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系椭圆环型者。7.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型平面透镜系复数阵列设置于一基板上,发光二极体系一一对应设置于微型平面透镜之轴心线者。8.如申请专利范围第7项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该基板系为透明材质者。9.如申请专利范围第7项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该基板下方设置有一具有偏极或扩散特性化学镀膜之片材者。10.如申请专利范围第1项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该发光二极体下方设有一反射罩,该反射罩具有一内凹弧面结构,该内凹弧面结构之内侧壁具有反射特性,该发光二极体系设置于该内凹弧面结构内,藉此强化发光二极体光线之方向性者。11.如申请专利范围第10项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为圆球面者。12.如申请专利范围第10项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为椭圆球面者。13.如申请专利范围第10项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为抛物球面者。14.一种高可视性发光二极体面型光源调制模组,其包括:至少一微型平面透镜(Fresnel lens),其具有复数之同心环状凹凸结构;至少一发光二极体,系设置于前述微型平面透镜之一侧;一液晶面板,系设置于前述微型平面透镜之上方;一框体,其具有一容置空间,系供收纳前述微型平面透镜、发光二极体、液晶面板等构件;该发光二极体与微型平面透镜之间具有一定距离,藉由微型平面透镜对发光二极体之光线产生放大作用,再经由液晶面板透出者。15.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系设置于该微型平面透镜之其中一侧面者。16.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系设置于该微型平面透镜之相对应两侧面者。17.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜系同轴心层层相叠或以错位量D排列相叠有多层者。18.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系正圆环型者。19.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜之同心环状凹凸结构系椭圆环型者。20.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜系复数阵列设置于一基板上,发光二极体系一一对应设置于微型平面透镜之轴心处者。21.如申请专利范围第20项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该基板系为透明材质者。22.如申请专利范围第20项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该基板系具有偏极或扩散特性化学镀膜者。23.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜与液晶面板之间设有一透明片材者。24.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型平面透镜与液晶面板之间设有一具有偏极或扩散特性之片材者。25.如申请专利范围第14项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该框体内部之该发光二极体下方设有一反射罩,该反射罩具有一内凹弧面结构,该内凹弧面结构之内侧壁具有反射特性,该发光二极体系设置于该内凹弧面结构内,藉此强化发光二极体光线之方向性者。26.如申请专利范围第25项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为圆球面者。27.如申请专利范围第25项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为椭圆球面者。28.如申请专利范围第25项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为抛物球面者。29.一种高可视性发光二极体面型光源调制装置,其包括:至少一微型球面透镜,其具有凸出球面;至少一发光二极体,系设置于前述微型球面透镜之一侧;该发光二极体与微型球面透镜之间具有一定距离,藉由微型球面透镜对发光二极体之光线产生放大作用者。30.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜之凸出球面系设置于该微型球面透镜之其中一侧面者。31.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜之凸出球面系设置于该微型球面透镜之相对应两侧面者。32.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜系同轴心层层相叠或以错位量D排列相叠有多层者。33.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜之凸出球面系正圆球型者。34.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜之凸出球面系椭圆球型者。35.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该微型球面透镜系复数阵列设置于一基板上,发光二极体系一一对应设置于微型球面透镜之轴心处者。36.如申请专利范围第35项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该基板系为透明材质者。37.如申请专利范围第35项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该基板下方设置一具有偏极或扩散特性化学镀膜之片材者。38.如申请专利范围第29项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该发光二极体下方设有一反射罩,该反射罩具有一内凹弧面结构,该内凹弧面结构之内侧壁具有反射特性,该发光二极体系设置于该内凹弧面结构内,藉此强化发光二极体光线之方向性者。39.如申请专利范围第38项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为圆球面者。40.如申请专利范围第38项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为椭圆球面者。41.如申请专利范围第38项所述之高可视性发光二极体面型光源调制装置,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为抛物球面者。42.一种高可视性发光二极体面型光源调制模组,其包括:至少一微型球面透镜,其具有凸出球面;至少一发光二极体,系设置于前述微型球面透镜之一侧;一液晶面板,系设置于前述微型球面透镜之上方;一框体,其具有一容置空间,系供收纳前述微型球面透镜、发光二极体、液晶面板等构件;该发光二极体与微型球面透镜之间具有一定距离,藉由微型球面透镜对发光二极体之光线产生放大作用,再经由液晶面板透出者。43.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜之凸出球面系设置于该微型球面透镜之其中一侧面者。44.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜之凸出球面系设置于该微型球面透镜之相对应两侧面者。45.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜系同轴心层层相叠或以错位量D排列相叠有多层者。46.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜之凸出球面系正圆球型者。47.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜之凸出球面系椭圆球型者。48.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜系复数阵列设置于一基板上,发光二极体系一一对应设置于微型球面透镜之轴心处者。49.如申请专利范围第48项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该基板系为透明材质者。50.如申请专利范围第48项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该基板系具有偏极或扩散特性化学镀膜者。51.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜与液晶面板之间设有一透明片材者。52.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该微型球面透镜与液晶面板之间设有一具有偏极或扩散特性之片材者。53.如申请专利范围第42项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该框体内部之该发光二极体下方设有一反射罩,该反射罩具有一内凹弧面结构,该内凹弧面结构之内侧壁具有反射特性,该发光二极体系设置于该内凹弧面结构内,藉此强化发光二极体光线之方向性者。54.如申请专利范围第53项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为圆球面者。55.如申请专利范围第53项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为椭圆球面者。56.如申请专利范围第53项所述之高可视性发光二极体面型光源调制模组,其中,该反射罩之内凹弧面结构系为抛物球面者。图式简单说明:第一A图及第一B图系一种习知背光源模组结构之结构示意图。第二图及第三图系另两种习知背光源模组结构之结构示意图。第四A图系本创作之光源调制装置之俯视图。第四B图系第四A图之4B-4B剖视图。第五图系本创作之成像原理示意图。第六图系本创作之光源调制模组之剖面结构示意图。第七图系本创作之光源调制模组之另一实施例之剖面结构示意图。第八图系本创作之光源调制模组之另一实施例之剖面结构示意图。第九A至九E图系本创作之光源调制装置之其他实施例之剖视图。第十A图系本创作之光源调制装置之另一较佳实施例之俯视图。第十B图系第十A图之10B-10B剖视图。第十一A图系本创作之光源调制装置之另一较佳实施例之俯视图。第十一B图系第十一A图之11B-11B剖视图。第十二图系第十一A图之光源调制装置所构成之光源调制模组之剖面结构示意图。第十三图系第十一A图之光源调制装置所构成之光源调制模组之另一实施例之剖面结构示意图。第十四图系第十一A图之光源调制装置所构成之光源调制模组之另一实施例之剖面结构示意图。第十五A至十五E图系第十一A图之光源调制装置之其他实施例之剖视图。 |
