发明名称 光化学反应处理装置及光化学反应处理方法
摘要 本发明提供一种光化学反应处理装置及光化学反应处理方法,该装置有复数之作为光源之放电灯,将该复数光源中之一部分光源点灯或调光点灯,并依序地转换该点灯或调光点灯之光源之组合,及根据光源之经时(随时间经过)的照度降低特性,依使用时间之经过变更点灯或调光点灯之光源数与熄灯之光源数的比率而将照射于被照射体之光照射量控制于所定的水准,从而得以抑制因光量过多所引起之非意欲的反应。
申请公布号 TW565464 申请公布日期 2003.12.11
申请号 TW091123625 申请日期 2002.10.15
申请人 光电科技股份有限公司 发明人 角谷 佑公;中野 浩二
分类号 A61L2/08 主分类号 A61L2/08
代理机构 代理人 杜汉淮 台北市中山区吉林路二十四号九楼之六
主权项 1.一种光化学反应处理装置,系备有复数之光源,藉该光源发射之光照射被照射体实行光化学反应处理所用者,其特征乃在于依使用时间之经过,控制点灯用光源而将照射于该照射体之光照射量控制于所定的水准。2.如申请专利范围第1项之光化学反应处理装置,其特征系使该复数之之光源中之一部分的光源点灯或调光点灯,并藉由依序转换该点灯或调光点灯之光源的组合而将该光照射量控制于所定的水准。3.如申请专利范围第1或2项之光化学反应处理装置,其特征系根据光源之经时照度降低特性,依使用时间之经过变更点灯或调光点灯之光源数与熄灯之光源数的比率。4.如申请专利范围第3项之光化学反应处理装置,系将上述点灯或调光点灯之光源的组合及转换时期,以及随上述使用时间之经过之点灯或调光点灯之光源数与熄灯光源数之上述比率之变更态样等内容在该装置之运转开始前预先加以设定为其特征。5.如申请专利范围第4项之光化学反应处理装置,其中该设定内容系在运转开始后可加以修正者。6.如申请专利范围第1或2项之光化学反应处理装置,其中该光源系紫外线放射光源。7.一种光化学反应处理方法,其特征系使用申请专利范围第1-6项之任一项光化学反应处理装置,将其光源发射之光照射被照射体而对该被照射体实行光化学反应处理者。8.一种光化学反应处理方法,其特征系:藉由变更点灯或调光点灯之光源及熄灯之光源之比率,或利用点灯或调光点灯之光源的轮换延长光源之全数一起变换的时期。图式简单说明:第1图为本发明多灯式之紫外线照射装置之一实施例之断面略图;第2图为作为光源使用于第1图装置之放电灯之一例的纵断面略图;第3图为使用第2图之放电灯的实验结果,显示「电位梯度」与「185nm紫外线放射效率」之关系之曲线图;第4图为使用第2图之放电灯的实验结果,显示「灯电流」与最佳「电位梯度」之关系之曲线图;第5图为使用本发明之放电灯的实验结果,将灯管(玻璃管)之内径与最佳「电位梯度」之关系之对应「灯电流」之各値予以表示之曲线图;第6图为备有高效率型之紫外线放电灯之紫外线照射装置之随使用时间之经过发生之处理能力之变化与备有习用之紫外线放电灯之紫外线照射装置之实验结果之比较曲线图;第7图为点灯/熄灯轮换之时序控制装置(即程控器)之一例之方块图;第8图为将2-6图所示紫外线放射效率良好之放电灯31用于第1图所示之处理装置作为光源时之点灯/熄灯轮换之一例之图;及第9图为依第8图所示之点灯/熄灯轮换方式运转本发明装置时之TOC分解处理能力之变迁与习知装置之TOC分解处理能力的变迁之比较图;第10图为习知紫外线照射装置之放电灯之一例的纵断面略图。
地址 日本