发明名称 光资讯媒体用光阻原模之制造方法及光资讯媒体用原模之制造方法
摘要 在使用于光资讯媒体之制造的光阻原模中,形成具有曝光波长之一半左右之最小宽的微细图案时,抑制图案高度之减少,又,改善图案断面轮廓之不敏锐。一种光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其特征为:在基板上形成光阻层,从该光阻层上照射雷射光束而在光阻层形成潜像,显影该潜像,藉由形成凹凸图案来制造光阻层模时,在基板与光阻层之间,设置接触于光阻层,且在上述雷射光束之波长上表示光吸收性的光吸收层。
申请公布号 TW565837 申请公布日期 2003.12.11
申请号 TW091103476 申请日期 2002.02.26
申请人 TDK股份有限公司 发明人 小宅久司;高广彰
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其特征为:在基板上形成光阻层,从该光阻层上照射雷射光束而在光阻层形成潜像,显影该潜像,藉由形成凹凸图案来制造光阻层模时,在基板与光阻层之间,设置接触于光阻层,且在上述雷射光束之波长上表示光吸收性的光吸收层。2.如申请专利范围第1项所述之光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其中,上述光吸收层系在上述雷射光束之波长中含有具光吸收性的有机化合物者。3.如申请专利范围第2项所述之光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其中,作为上述有机化合物使用由光引发剂,光引发助剂及染料所选择之至少一种者。4.如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其中,将上述雷射光束之波长作为E(单位:nm),并将光阻层之厚度作为tR(单位:nm)时,为tR/E≦0.65.如申请专利范围第1项至第3项中任一项所述之光资讯媒体用光阻原模之制造方法,其中,将上述雷射光束之波长作为E(单位:nm),并将形成于光阻层的上述凹凸图案之最小宽度作为WP(单位:nm)时,为WP/E≦0.96.一种光资讯媒体用原模之制造方法,其特征为具有:使用藉由上述申请专利范围第1项至第5项之任一项的方法所制造的光资讯媒体用光阻原模,将形成于上述光阻层的上述凹凸图案复制于金属膜之制程者。7.如申请专利范围第6项所述之光资讯媒体用原模之制造方法,其中,具有在形成于上述光阻层之上述凹凸图案上,藉由无电解镀形成Ni薄膜,在该Ni薄膜上形成电镀膜,藉由剥离上述Ni薄膜与上述电镀膜所构成的金属膜,得到上述凹凸图案所复制之上述金属膜的制程者。图式简单说明:第1图系表示形成于基板上之微细图案的图式代用照片;利用本发明所制造的原模之原子间力显微镜像。第2图系表示形成于基板上之微细图案的图式代用照片;利用习知方法所制造的原模之原子间力显微镜像。
地址 日本
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