光学系统的照明单元和用于重复地将掩模图案成像在基片上的装置

摘要

用于光学系统的照明单元(2)包括一个依次配列有辐射源(3)和第一集光器(11)的照明系统(1)。照明单元(2)还包括一个具有光敏检测器(47)的检测系统(45)。照明系统(1)包括一个第二集光器(13)。具有至少一个棱镜(17)的棱镜系统(15)配置在两个集光器(11，13)之间的光径中。棱镜系统(15)具有一个将光耦合出照明系统(1)的分光面和一个将光耦合出棱镜系统(15)的出光面，而基本上不影响主光径中的亮度。检测系统(45)配置在棱镜系统(15)的出光面邻近，备有集光装置。本发明还与配备这种照明单元(2)的光学设备(100)，特别是光刻投影设备有关。

主权项

1.一种用于光学系统的照明单元，包括，依以下次序排列的，一个用于提供照明光束的辐射源单元，一个第一集光器的照明系统和一个包括一个测量照射剂量的光敏检测器的检测系统，所述照明单元的特征是：所述照明系统还包括一个第二集光器，而所述两个集光器封住了一个至少有一个棱镜的棱镜系统，所述棱镜系统有一个能将根据到所述检测系统的透射因子的一小部分光耦合出照明系统的分光面和一个将这部分光耦合出棱镜系统的出光面，所述检测系统的入光口径就安置在靠近所述棱镜系统的出光面处，所述透射因子基本不影响辐射源辐射的照明光束的亮度。