| 发明名称 | 在集成电路生产中清洗光刻胶的组合物 | ||
| 摘要 | 为了清洗光刻胶，本发明提出使用二甲亚砜（DMSO）或N-甲基吡咯烷酮（NMP）和3-甲氧基丙胺（MOPA）的混合物。有利地，往该混合物添加少量水和腐蚀抑制剂，如甲苯基三唑酸钠。 | ||
| 申请公布号 | CN1130454C | 申请公布日期 | 2003.12.10 |
| 申请号 | CN00121756.9 | 申请日期 | 2000.04.26 |
| 申请人 | 埃勒夫阿托化学有限公司 | 发明人 | J·－P·拉利尔 |
| 分类号 | C11D7/32;H05K3/26 | 主分类号 | C11D7/32 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 钟守期 |
| 主权项 | 1、清洗光刻胶的组合物，其特征在于该组合物含有以质量计30-95％二甲亚砜(DMSO)或N-甲基吡咯烷酮(NMP)，和70-5％3-甲氧基丙胺(MOPA)。 | ||
| 地址 | 法国普托 | ||