可调且可去除的等离子体淀积的抗反射涂层

摘要

公开了气相淀积的BARC和制备基于非晶碳薄膜的可调且可去除的抗反射涂层的方法。这些薄膜可以是氢化的、氟化的、氮化的碳薄膜。该薄膜具有在UV和DUV波长，具体地365、248和193nm波长，分别从约1.4到约2.1和从约0.1到约0.6可调的折射率和消光系数。此外，本发明制备的薄膜可以高的保形性淀积于器件形貌上，且它们可用氧和/或氟离子刻蚀工艺刻蚀掉。因为它们独特的特性，这些薄膜可被用来在UV和DUV波长形成可调的且可去除的抗反射涂层，以在光致抗蚀剂层/BARC涂层界面达到接近零的反射系数。该BARC极大地改进了半导体芯片的性能。

主权项

1.一种多层抗蚀系统构件，包括：至少一个衬底，具有至少一个主表面，至少一个精细的光学可调的气相淀积抗反射涂层材料，所述抗反射涂层被一层能量光敏材料层涂敷；所述衬底从一组材料中选择，包括半导体、聚合物、玻璃、金属及其任何一种组合，及磁头、电子芯片、电路板、和半导体器件；所述光敏材料层包括干片形式的光致抗蚀剂层并且所述光敏材料从一组材料中选择，包括对UV波长范围敏感的组合物，对DUV波长范围敏感的组合物，和对UV和DUV波长范围敏感的组合物，及组合物的组合物；所述抗反射涂层从一组材料中选择的，包括类金刚石碳，氟化的类金刚石碳，氟化的氢化类金刚石碳，氮化类金刚石碳，非晶的氟化的氢化碳，非晶的氟化碳，氟化的四面体碳，非晶的氮化碳，非晶的氮化的氢化碳，氮化的四面体碳，及其任意组合；所述抗反射涂层薄膜在365、248和193nm波长时的折射率n的范围约2.1到1.4并且消光系数K的范围约0.1到0.6；所述抗反射涂层置于所述衬底和所述光敏材料之间，其折射率和消光系数均可调，以便使光敏材料和衬底的折射率和消光系数在界面上基本匹配。