| 发明名称 |
ASYMMETRISCHE REFLEXIONSANORDNUNG ZUR ADDITION VON HOCHLEISTUNGSLASERSTRAHLEN |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE60006261(D1) |
申请公布日期 |
2003.12.04 |
| 申请号 |
DE20006006261 |
申请日期 |
2000.08.30 |
| 申请人 |
ALPHAMICRON, INC. |
发明人 |
TAHERI, BAHMAN;PALFFY-MUHORAY, PETER |
| 分类号 |
G02B17/00;G02B27/14;H01S3/00;H01S3/23;(IPC1-7):G02B6/42;H01S5/40 |
主分类号 |
G02B17/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
