发明名称 |
Zuführungsdraht-Rahmen zur Verwendung bei der Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit LOC-Struktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit LOC-Struktur |
摘要 |
Es wird ein Zuführungsdraht-Rahmen zur Verwendung bei der Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit LOC-Struktur beschrieben, bei der sich die Zuführungsdrähte über einen Halbleiterbaustein erstrecken. Der Rahmen besitzt einen äußeren Rahmenabschnitt, ein Trägerplättchen, welches sich durch einen Zentralbereich des äußeren Rahmenabschnitts erstreckt und bei dem ein Ende des Trägerplättchens mit dem äußeren Rahmenabschnitt verbunden ist, und eine Vielzahl von Zuführungsdrähten, welche sich von beiden Seiten des äußeren Rahmenabschnitts in Richtung des Trägerplättchens erstrecken. |
申请公布号 |
DE4345303(C2) |
申请公布日期 |
2003.12.04 |
申请号 |
DE19934345303 |
申请日期 |
1993.06.04 |
申请人 |
MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
TOMITA, YOSHIHIRO;UEDA, NAOTO;NISHINAKA, YOSHIROU;ABE, SHUNICHI;ICHIYAMA, HIDEYUKI |
分类号 |
H01L21/56;H01L21/60;H01L23/495 |
主分类号 |
H01L21/56 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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