| 发明名称 |
MATERIAL FÜR SCHATTENMASKE, VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG, SCHATTENMASKE UND BILDEMPFANGSRÖHRE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60006225(D1) |
申请公布日期 |
2003.12.04 |
| 申请号 |
DE20006006225 |
申请日期 |
2000.03.08 |
| 申请人 |
TOYO KOHAN CO., LTD. |
发明人 |
SATO, TAIZO;UEDA, TOSHIYUKI;AOKI, SHINICHI |
| 分类号 |
C21D3/04;C21D8/02;C22C38/00;C22C38/04;C22C38/06;H01J29/07;(IPC1-7):C22C38/00;C21D9/46;H01J9/14 |
主分类号 |
C21D3/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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