| 发明名称 | 处理电子元件的方法及装置 | ||
| 摘要 | 一种处理电子元件(11)的方法，其中电子元件(11)暴露在加热溶剂(15)中，并且随后暴露在臭氧化处理流体中。可选的，通过将电子元件(11)暴露在加热溶剂的经过层中，使电子元件(11)暴露在加热的溶剂(15)中。还提供了一种处理电子元件(11)的装置，其具有加热的溶剂(15)和臭氧化的流体。 | ||
| 申请公布号 | CN1460037A | 申请公布日期 | 2003.12.03 |
| 申请号 | CN01809225.X | 申请日期 | 2001.03.13 |
| 申请人 | 马特森技术公司 | 发明人 | 斯蒂文·韦尔豪韦贝克;刘易斯·柳;艾伦·E·沃尔持;C·韦德·希恩;克利斯托弗·F·麦康奈尔 |
| 分类号 | B08B3/10 | 主分类号 | B08B3/10 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 陆弋;顾红霞 |
| 主权项 | 1.一种用于处理电子元件的方法，该方法包括：a.将电子元件暴露在加热的溶剂中；以及b.随后将电子元件暴露在臭氧化处理流体中。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||