发明名称 | 双位操作的罩幕式只读存储器结构及其制造方法 | ||
摘要 | 一种双位操作的罩幕式只读存储器结构及其制造方法,此存储器结构主要是由一基底、一栅极结构、一双位编码布植区、至少一间隙壁、一埋入式漏极、一绝缘结构以及一字符线所构成。其中,栅极结构配置在基底上,且双位编码布植区配置在栅极结构两侧边底下的基底中。另外,间隙壁是配置在栅极结构的两侧,且埋入式漏极配置在间隙壁两侧的基底中。因此,埋入式漏极与双位编码布植区之间具有一缓冲区。再者,绝缘结构配置在埋入式漏极上方的基底表面,且字符线是配置在栅极结构上。 | ||
申请公布号 | CN1459868A | 申请公布日期 | 2003.12.03 |
申请号 | CN02120485.3 | 申请日期 | 2002.05.20 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 刘慕义;詹光阳;叶彦宏;范左鸿;卢道政 |
分类号 | H01L27/112;H01L21/8246 | 主分类号 | H01L27/112 |
代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
主权项 | 1.一种双位操作的罩幕式只读存储器结构,其特征是,该结构包括:一基底;一栅极结构,配置在该基底上;一双位编码布植区,配置在该栅极结构两侧边底下的该基底中;至少一间隙壁,配置在该栅极结构的两侧;一埋入式漏极,配置在该间隙壁两侧的该基底中,其中该埋入式漏极与该双位编码布植区之间具有一缓冲区;一绝缘结构,配置在该埋入式漏极上方的该基底表面上;以及一字符线,配置在该栅极结构的表面上。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区力行路16号 |