发明名称 微影制程的焦距检测方法
摘要 本发明公开一种微影制程的焦距检测方法。首先,在一光罩上形成大体平行排列的复数线条图案,藉由此光罩在一形成有光阻层的晶图上进行曝光,以在光阻层上形成复数个曝光区,其中每一曝光区系对应使用一曝光焦距。随后,对光阻层进行显影,以在晶圆上形成具有线条图案的复数图案区。然后,将具有上述图案区的晶圆置入一光学仪器中,并观测由每一曝光焦距对应形成的图案区中的线条线宽变化。最后,依据线宽变化及其对应的曝光焦距定出焦距允收范围(focus latitude)。
申请公布号 CN1459670A 申请公布日期 2003.12.03
申请号 CN02120604.X 申请日期 2002.05.23
申请人 矽统科技股份有限公司 发明人 雍镇诚;杨长浩
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 戴元毅
主权项 1、一种微影制程的焦距检测方法,其特征在于至少包括下列步骤:在一光罩上形成一测试图案;藉由上述光罩在一形成有光阻层的基底上进行曝光,以在上述光阻层上形成复数个曝光区,其中每一上述曝光区系对应使用一曝光焦距;对上述光阻层进行显影,以在上述基底上形成具有上述测试图案的复数图案区;检测每一上述图案区以定出焦距的允收范围。
地址 台湾省新竹科学园区