发明名称 |
在湿环境下预处理废气的装置和方法 |
摘要 |
来自上游半导体或LCD制造设备中的废气在被送入废气处理系统进行处理前对所述废气进行湿式预处理的装置和方法。该装置包括一种使试剂雾化的雾化喷嘴和一个处理段,在所述处理段中通过旋风方法利用雾化试剂预处理所述废气。所述处理段包括一个内管部件和一个外管部件。所述处理段包括一个废气入口、一个试剂入口、一个废气出口和一个废液出口。还提供一种包括多个湿式预处理单元的装置,每个单元分别处理来自各个CVD室的废气流。 |
申请公布号 |
CN1459324A |
申请公布日期 |
2003.12.03 |
申请号 |
CN03105427.7 |
申请日期 |
2003.02.20 |
申请人 |
优尼森有限公司 |
发明人 |
李炳一;任炳权;吴闰学;郑成珍;李万洙;郑枪旭;尹泰爽;李根植 |
分类号 |
B01D53/34;B01D53/78;B01D53/70;B01D50/00 |
主分类号 |
B01D53/34 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
张平元;赵仁临 |
主权项 |
1、一种在废气处理系统的上游和湿环境下预处理废气的装置,包括:一种使试剂雾化的喷雾器;和一个包括内管部件和外管部件的处理段,其中所述处理段包括一个废气入口和一个雾化试剂入口,所述废气入口用于输入废气到所述处理段,所述雾化试剂入口用于输入雾化试剂到处理段,在所述处理段内通过雾化试剂预处理废气,及其中所述处理段还包括一个废气出口和一个废液出口,所述废气出口用于排放经雾化试剂预处理的废气,所述废液出口用于排放预处理步骤产生的废液。 |
地址 |
韩国京畿道 |