ELECTRON BEAM MASK, SUBSTRATE THEREFOR, AND ELECTRON BEAM MASK BLANK,申请号KR20030032356-传众专利搜索

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发明名称	ELECTRON BEAM MASK, SUBSTRATE THEREFOR, AND ELECTRON BEAM MASK BLANK
摘要
申请公布号	KR20030091731(A)	申请公布日期	2003.12.03
申请号	KR20030032356	申请日期	2003.05.21
申请人		发明人
分类号	H01L21/027;B81B3/00;G03F1/20;G03F1/68;G03F1/80	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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