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发明名称 PROCESS AND DEVICE FOR THE DEPOSITION OF AN AT LEAST PARTIALLY CRYSTALLINE SILICIUM LAYER ON A SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20030092060(A) 申请公布日期 2003.12.03
申请号 KR20037013272 申请日期 2003.10.10
申请人 发明人
分类号 C23C16/513;C23C16/24 主分类号 C23C16/513
代理机构 代理人
主权项
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